所属单位名称：
湖南大学/材料科学与工程学院
仪器用途：
该仪器设备主要应用于材料领域。
功能用途说明：
该仪器设备主要用于离子束辅助沉积纳米金刚石、反应磁控溅射沉积aln膜、多层膜（混合膜）制备、微晶硅薄膜制备、制备材料芯片研究新材料等。
技术性能指标：
该仪器设备主要指标为真空室大小为?800mm?700mm，真空由两台f1600分子泵获得，极限真空可达5?10-5pa。配备了四个考夫曼型离子源，包括两个溅射源、一个低能辅助镀膜源和一个中能轰击源。溅射源可同时用于溅射沉积两种靶材；低能源既可用于样品表面的清洗、又可用于辅助镀膜和直接镀膜；中能源主要用于离子注入轰击制作过渡界面。