所属单位名称：
湖南工业大学/理学院
仪器用途：
该仪器设备主要应用于材料，机械工程领域。
功能用途说明：
该仪器设备主要用于镀膜。
技术性能指标：
该仪器设备主要指标为以下几个方面设备极限真空度：≤6.7×10-5pa(系统经烘烤)2.恢复真空：从大气抽至6.6×10-4pa≤(30分钟)3.三个可以放置基片位置，一个基片台可以加热，温度可达到800℃。4.基片转盘能够0～360°来回转动。5.两路工作气路。两气路最高流量分别可达50sccm、100sccm，有混气室实现两路工作气体混合。6.直流电源二台：500w射频电源一台：500w7.可实现三个靶分别正对垂直指向三个工件的直溅模式，该模式下靶与样品距离110～130mm可调，并有调位距离指示。